Учени от Хонконг разработиха прототип на маска за лице с нова наномембрана

Учени от Хонконг разработиха прототип на маска за лице с нова наномембрана

Учени от Хонконг разработиха прототип на маска за лице с нова наномембрана

От Хонконгския университет за наука и технологии са разработили ултратънък полимерен нанофилм и са произвели прототип на маска за лице с 99% ефективен филтър за вируси, бактерии и частици, предава Радио Китай. 

Полимерната наномембрана е не само 25 пъти по-здрава от неръждаемата стомана със същата маса, но е и изключително прозрачна, газопропусклива и водоустойчива, което я прави подходящо устройство за медицинска защита, както и за технологии като обезсоляването, електрониката, слънчевите клетки и много други, заявиха от университета.

Според експертите макар че обикновените непрозрачни хирургически маски могат да предпазят потребителите от инфекция, те не са удобни за хората с увреден слух, които общуват чрез четене на устните и езика на лицето.

„Този нов материал има голям потенциал, но заради пандемията се фокусирахме в превръщането му в маска за лице, която е не само прозрачна и дишаща, но и високоефективна срещу вируси и бактерии. Той е идеален и за различни биомедицински приложения, например ново поколение превръзки за рани, които не изискват ежедневна подмяна и позволяват директното използване на лекарството“, каза Гао Пин, професор от университета.

По думите му, този вид нова превръзка действа като временна кожа за жертвите на изгаряния, тъй като е водоустойчива и няма опасност да се намокри раната.

Освен в медицината, нанофилмът може да се използва като нановибрационен високоговорител с по-висока разделителна способност на аудио изхода на електронни уреди или като ултратънка батерия и кондензатор с висока енергийна плътност. 

Коментари

НАЙ-НОВО

|

НАЙ-ЧЕТЕНИ

|

НАЙ-КОМЕНТИРАНИ