ЕК одобри германска държавна помощ за четири проекта в полупроводниковата индустрия

Европейската комисия одобри германска държавна помощ в размер на 659 млн. евро за изграждането на четири първи по рода си производствени съоръжения по веригата на стойността на полупроводниците. Мярката цели да укрепи позициите и стратегическата автономност на Европейския съюз в сектора в съответствие с целите на инициатива за повишаване на европейската конкурентоспособност в областта на производството на чипове и политическите насоки на Европейската комисия за периода 2024–2029 г., съобщиха от ЕК на официалната си страница.

Германия ще предостави преки безвъзмездни средства за изграждането на четири производствени обекта, финансирани съвместно от федералния бюджет и властите на съответните федерални провинции.

Най-голяма част от помощта – 353 млн. евро – е предназначена за Element 3-5 за изграждането на предприятие в Баесвайлер, провинция Северен Рейн-Вестфалия, за производство на епитаксиални пластини от силициев карбид.

Vishay Siliconix Itzehoe ще получи 214 млн. евро за завод в Итцехое, провинция Шлезвиг-Холщайн, за производство на силициеви силови транзистори.

За KLA-Tencor MIE са одобрени 74,4 млн. евро за предприятие във Вайлбург, провинция Хесен, което ще произвежда усъвършенствано оборудване за оптичен контрол на наслагването на слоеве и метрология на тънки филми.

KETEK ще получи 17,9 млн. евро за производствена база в Мюнхен, провинция Бавария, за изработването на два високоспециализирани вида чипове – силициеви дрейфови детектори (Silicon Drift Detectors – SDD) и графенови входни прозорци за радиация (Graphene Radiation Entry Windows – GREW).